W polskim przemyśle procesowym od lat powtarza się dobrze znany problem: mimo kolejnych inwestycji w czujniki, aparaturę i systemy raportowe, w decydujących momentach zakłady chemiczne, rafinerie czy oczyszczalnie ścieków nadal opierają się na intuicji operatorów.

Dane są dostępne, lecz często zbyt rozproszone lub zbyt wolne, by przełożyć je na szybkie i wiarygodne decyzje operacyjne - czy można skrócić wsad, utrzymać specyfikację produktu, czy uniknąć przekroczenia parametrów środowiskowych. W efekcie firmy funkcjonują z niepotrzebnym marginesem bezpieczeństwa, który kosztuje czas, surowce i stabilność procesów.

Reklama

W kontekście tego wyzwania stoi partnerstwo dwóch polskich firm, które łączy doświadczenie i innowacyjną technologię, by odpowiedzieć na realne potrzeby przemysłu. OMC ENVAG, od ponad 33 lat działający na instalacjach jako integrator i serwisant systemów analitycznych, wraz z GEKKO Photonics, specjalistą w optycznej diagnostyce chemicznej i analizie sygnałów, tworzą wspólnie nowy standard pracy z danymi procesowymi. Ta współpraca oferuje zakładom kompleksową usługę - od zbadania wymagających procesów, przez walidację próbek po dobór odpowiedniej technologii i jej implementację.

Dzięki współpracy OMC ENVAG i GEKKO Photonics, zakłady przemysłowe otrzymują rozwiązanie, które w praktyczny sposób zwiększa efektywność, stabilność i przewidywalność procesów. Połączenie ponad 33 letniego doświadczenia integratorskiego OMC ENVAG z zaawansowaną technologią optyczną GEKKO Photonics, przekłada się na szybkie wdrożenia, pewność działania i pełną kontrolę nad kluczowymi etapami produkcji. Co wyróżnia tę technologię?

1. Błyskawiczne wdrożenie - analizator działa niemal od razu, bez długich przygotowań.
2. Automatyczne czyszczenie sond - minimum obsługi, maksimum stabilności, także przy mediach wymagających (np. lepkich).
3. Algorytmy odporne na zmienność procesu - pewne i powtarzalne pomiary w każdych warunkach.
4. Rozszerzony raport wykonalności - pełniejszy obraz procesu i szybsze decyzje technologiczne.
5. Monitorowanie dodatkowych parametrów - większa kontrola, m.in. dzięki pomiarowi współczynnika załamania.
6. Analiza mieszanin wieloskładnikowych - precyzyjne wyniki nawet w złożonych aplikacjach.
7. Odczyt z wielu sond jednocześnie - nadzór kilku punktów procesu równolegle i wyższa precyzja decyzji.

GEKKO Photonics to firma technologiczna specjalizująca się w zaawansowanej optycznej diagnostyce chemicznej. Tworzy i produkuje analizatory Spectrally, oparte na autorskiej technologii analitycznej, zaawansowanych algorytmach oraz dedykowanym oprogramowaniu i optyce.

W odróżnieniu od tradycyjnych dostawców sprzętu, GEKKO Photonics działa przede wszystkim jako strategiczny partner procesowy. Zanim zaproponuje rozwiązania, zespół dokładnie analizuje stan faktyczny i w ślad za tym identyfikuje newralgiczne punkty procesu, linie generujące największe straty, czy obszary odpowiadające za nadmierną produkcję odpadów.

Takie podejście pozwala nie tylko wdrożyć precyzyjną kontrolę jakości, lecz także realnie zoptymalizować działanie aplikacji.

- Zaczynamy od rozmów i analizy danych, tworzymy coś w rodzaju mapy bólu procesu. Dopiero później dobieramy odpowiednie narzędzia – czy to będą modele, algorytmy, czy dodatkowe analizatory, zależy od tego, co pokazuje diagnoza – mówi Robert Stachurski, Prezes Zarządu Gekko Photonics. A samą technologię porównuje do medycyny: Leczenie ma sens dopiero wtedy, gdy wiadomo, skąd bierze się problem.

Analizator opracowany przez GEKKO Photonics i wdrażany przez OMC ENVAG, to nie tylko nowa technologia, ale zupełnie nowa jakość pracy z procesem. Dane z reaktorów, linii rafineryjnych czy instalacji ściekowych trafiają bezpośrednio do analizatorów Spectrally, gdzie są natychmiast poddawane analizie przez zaawansowane algorytmy i sztuczną inteligencję. To właśnie ta technologia pozwala wychwycić nawet najdrobniejsze zmiany w widmie i trendach procesowych - zmiany, których klasyczne metody często nie widzą lub wykrywają je zdecydowanie za późno.

Rozwiązanie zostało zaprojektowane z myślą o realnych warunkach przemysłowych: od agresywnej chemii, przez wysokie temperatury, po zabrudzenia i osady. W praktyce oznacza to trwałe sondy i światłowody montowane bezpośrednio w linii, odporny hardware oraz oprogramowanie, które bez problemu łączy się z DCS i innymi systemami zakładowymi. Efekt? Wspólnie z OMC Envag dostarczamy spójne, szybkie i wytrzymałe rozwiązanie, który daje zakładom dokładnie to, czego potrzebują: rzetelne dane w czasie rzeczywistym i większą pewność operacyjną każdego dnia.

OMC ENVAG wnosi do współpracy doświadczenie integratora i partnera operacyjnego, który od ponad 33 buduje i utrzymuje systemy analityczne w polskich zakładach. Firma nie tylko dostarcza aparaturę, ale również projektuje kompletne zabudowy, odpowiada za integrację z automatyką oraz zapewnia późniejszy serwis, gwarantując ciągłość pracy instalacji.

- Współpraca z Gekko Photonics i rozwój Spectrally to dla nas duża satysfakcja. To w pełni polska technologia stworzona przez młodych inżynierów, która ma realny potencjał, by wnieść nową jakość do przemysłu „Made in Poland”. Po 33 latach działalności widzimy, jak imponująco rozwinęła się krajowa myśl techniczna - coś, co kiedyś wydawało się nieosiągalne, dziś powstaje lokalnie i przy naszym udziale, to bardzo nas cieszy.

Współpraca przy Spectrally to przykład partnerstwa opartego na wspólnej wizji i tworzeniu realnej wartości dla przemysłu. Jest dla nas szczególnie cenna, bo pokazuje, jak wiele można osiągnąć, łącząc rynkowe doświadczenie i innowacyjność polskich zespołów inżynierskich. Dlatego z pełnym zaangażowaniem wspieramy ten projekt i liczymy na jego dalszy rozwój oraz obecność na kolejnych rynkach - podkreśla Piotr Wetmański, Wiceprezes Zarządu OMC Envag.

W praktyce podział kompetencji w ramach współpracy wygląda bardzo klarownie. GEKKO Photonics odpowiada za warstwę koncepcyjną i analityczną systemu — od modeli algorytmicznych i interpretacji danych procesowych po logikę działania całego rozwiązania.

OMC ENVAG przejmuje natomiast pełną odpowiedzialność za wdrożenie: przygotowanie projektu, montaż, instalację sond i światłowodów, integrację z istniejącą automatyką oraz późniejsze utrzymanie instalacji. Dzięki temu zakład otrzymuje technologię, która nie tylko mierzy, ale realnie wspiera jego kluczowe cele operacyjne. To użytkownik definiuje priorytety — czy chodzi o skrócenie czasu wsadu, zmniejszenie liczby partii poza specyfikacją, czy ograniczenie ryzyk środowiskowych — a rozwiązanie zostaje skonfigurowane tak, aby dostarczać dane i funkcjonalności bezpośrednio wzmacniające te obszary.

W pilotażowym wdrożeniu w zakładzie produkującym żywice syntetyczne sondy Spectrally zostały zainstalowane bezpośrednio w reaktorach, a algorytmy AI analizowały proces w czasie rzeczywistym. Dzięki temu zakład odszedł od decyzji opartych wyłącznie na doświadczeniu i opóźnionych wynikach laboratoryjnych. W rezultacie, średni czas partii skrócony o ok. 6%, prawie o 30% mniej wsadów wymagających przeróbki i realne oszczędności surowców.

Dodatkowo produkcja stała się bardziej przewidywalna, a planowanie obciążenia linii - znacznie łatwiejsze. Technologia Spectrally przełożyła dane na konkretne decyzje, podnosząc efektywność, stabilność i rentowność procesu, realizując produkcję zgodną z wymaganiami klienta.

Inny przykład dotyczy instalacji ścieków przemysłowych z dużym udziałem zanieczyszczeń ropopochodnych. Do tej pory personel reagował na wahania ładunku z opóźnieniem, opierając się głównie na wynikach pomiarów z laboratorium – opóźnionych, kosztownych i czasochłonnych.

Zastosowanie sond optycznych i analizatorów Spectrally na wcześniejszych punktach oraz algorytmów wychwytujących zmiany w składzie ścieków pozwoliło wcześniej identyfikować miejsce pochodzenia zanieczyszczenia na podstawie składu ścieków. W ciągu roku liczba epizodów zbliżania się do granicznych parametrów zrzutu spadła o około 30 proc., a zakład zyskał większą elastyczność w sterowaniu procesem, bez konieczności pracy w ciągłym, alarmowym trybie.

W obu projektach kluczową rolę odegrały analizatory, algorytmy oraz sondy odporne na wymagające czynniki procesowe. Jednak dopiero połączenie tych elementów z właściwym zrozumieniem przebiegu produkcji i precyzyjnie zaplanowaną integracją, przyniosło realny efekt biznesowy.

Samo urządzenie nie zmieni procesu, jeśli nie zostanie osadzone w jego logice. Dlatego tak duży nacisk kładziemy na etap wspólnej diagnozy z klientem. Najpierw powstaje "mapa bólu", a dopiero potem decyzja, jakie narzędzia mają sens – podkreśla prezes GEKKO Photonics.

Współpraca z OMC ENVAG pozwala skalować ten model dzięki doświadczeniu firmy w pracy z instalacjami o złożonych warunkach. Zespół inżynierów z OMC Envag przekłada koncepcję systemu na praktyczne rozwiązania: dobiera miejsca montażu sond, prowadzi trasy światłowodów i integruje je z istniejącą automatyką.  To oni doskonale rozumieją ograniczenia przestrzenne i organizacyjne fabryk. Często największym wyzwaniem nie jest technologia, lecz takie jej wpięcie, by nie zaburzyć procesu, nie wydłużać przestojów i nie tworzyć kolejnej „wyspy” do utrzymania - podkreśla wiceprezes OMC ENVAG.

Na tle globalnego trendu rosnących inwestycji w analitykę danych i rozwiązania AI, GEKKO Photonics i OMC ENVAG proponują podejście dopasowane do realiów polskiego przemysłu. Zamiast obiecywać gotowe „czarne skrzynki”, stawiają na praktyczną transformację opartą na wykorzystaniu istniejących instalacji, kompetencji zespołów i danych procesowych, wzmacnianych technologią optyczną i solidną integracją.

Model współpracy opiera się na jasno zdefiniowanych  rolach: Gekko Photonics wnosi zaawansowaną analitykę i logikę systemów, a OMC ENVAG - wieloletnie doświadczenie wdrożeniowe, integracyjne i serwisowe. W połączeniu ze świadomym użytkownikiem po stronie zakładu tworzy to strukturę, która realnie poprawia sposób pracy z danymi procesowymi.

W świecie rosnących wymagań i malejącego marginesu błędu taka współpraca może stać się ważnym źródłem przewagi konkurencyjnej dla polskich fabryk.

źródło: Inner Value